今週末の「特許図面作成レベルアップセミナー」の教室が変更になったようです。

2018年4月7日(土) 13:00-17:00
会 場 NOMYC センター棟 C-510


大きな部屋に変わりましたので、限定20名の制限もなくなりました。まだまだ、お申し込みいただけます。

「特許図面作成レベルアップセミナー」は、実習形式で行います。作図の経験が少ない方であっても緊張せず、お気軽にご参加ください。

尚、セミナーでは、いろいろな課題の図面を描きますが、当日の課題図だけでなく、日頃の疑問点などありましたら、まとめておくとよいかもしれません。講師だけでなく、実務に携わっている方が多く参加するので、誰かしら答えやヒントを持ている方がいるかもしれません。


はじめてご参加される方の為に会場までのアクセスのご案内です。
(使いまわしの案内です)


公共の交通機関を利用する場合は「小田急線の参宮橋駅」を利用されるのが一番わかりやすいと思います。急行は止まりません。

駅から会場の「国立オリンピック記念青少年総合センター」まで徒歩で7分程です。そこからまたセミナーを行う教室まで数分かかりますので、余裕を持って来て頂いた方がいいと思います。(駅から教室まで15分程見ていただければ良いと思います)

・門を入った所です。
01

・講義を行う教室の部屋番号が確認できます。
02

・センター棟です。ここで行います。
03


施設には食事をするところや、休憩できるスペースがありますので、早めについても時間調整をできます。

それでは、お待ちしております。